新材料和腐蝕性氣體技術
與國際半導體技術藍圖(ITRS)相結合，我們的圣馬科斯(美國)中心的過去及近期的研發成果包括超高純六氟化鎢(WF6)和新穎的高- k ALD工藝先驅體。
稀有氣體和鹵素
在深紫外光(DUV)光刻技術的發展中，我們的阿爾法(美國)工廠已率先在248nm和193nm的準分子激光器中采用了高純度鹵素氣體的混合物。我們在其他領域的專業技術，還包括氙氣回收和濃縮同位素的氣體和化學品。
氟技術反應腔清洗
我們的仁州(韓國)工廠擁有較新的低成本、模塊化氟發生器。此項零碳技術在越來越嚴格的行業環境立法下的重要性日益突出。
我們與主要客戶、OEM廠商、學術機構和產業集團也聯合開發項目。
范圍
我們提供半導體制造過程中的所需氣體:
超純大宗氣體
現場氣體發生器
氣瓶和批量供應的電子特種氣體。
| 大宗電子氣體 | 電子特殊氣體 |
| 氮 | 硅源氣體 |
| 氫 | 氮化物/氧化物生長 |
| 氬 | 摻雜和離子注入氣體 |
| 氧 | 金屬和電介質刻蝕 |
林德集團公司AUECC，專門為微電子行業制造和分配超純濕化學品。請了解更多詳細信息。
系統和專業服務
此外，我們還提供廣泛的專業服務，可讓您專注于核心業務，保持業務正常運行。這些服務范圍從交鑰匙工程設計和安裝服務可延伸到氣體系統端對端的管理服務，同時還有:
大宗氣體儲存和分配系統
大宗特種氣體系統(BSGS)
氣柜和配氣管
全面氣體及化學品管理。
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